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Sensofar S neox:測量安全與效率革命

產品簡介

Sensofar S neox:測量安全與效率革命
在精密加工與新材料研發中,接觸式探針易損傷軟性材料,而激光共焦技術則受限于高反射率表面。Sensofar S neox通過非接觸式光學測量與抗干擾設計,為敏感材料檢測提供了可靠方案。

產品型號:
更新時間:2025-09-15
廠商性質:代理商
訪問量:23
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Sensofar S neox:測量安全與效率革命

在精密加工與新材料研發中,接觸式探針易損傷軟性材料,而激光共焦技術則受限于高反射率表面。Sensofar S neox通過非接觸式光學測量與抗干擾設計,為敏感材料檢測提供了可靠方案。

非接觸式測量原理

S neox采用共聚焦顯微技術與白光干涉技術,通過光學剖面重構表面形貌,無需物理接觸樣品。在測量水凝膠人工角膜時,這一特性避免了傳統探針導致的0.5μm形變誤差,確保了濕潤狀態下表面紋理的真實性。其共聚焦模式通過針孔濾波排除離焦光干擾,空間采樣精度可達0.01μm;白光干涉模式則利用零光程差原理,在任意放大倍數下保持納米級縱向分辨率。

抗干擾設計:從實驗室到車間

針對工業環境中的振動與溫度波動,S neox搭載實時環境補償算法(REC),可在振動幅度>100nm的條件下穩定輸出數據。在某汽車零部件廠的實際測試中,設備在未使用氣浮隔振臺的情況下,仍能完成Ra=0.8μm的精密模具表面測量,重復性誤差。此外,其LED光源系統不受電磁干擾影響,適用于電力設備檢測等強磁場場景。

參數與型號擴展性

基礎款S neox的測量速度為180fps,支持500萬像素CMOS傳感器;五軸款可升級至1000萬像素傳感器,將典型圖像獲取時間縮短至1.5秒。用戶可根據需求選配功能模塊:例如,在測量高溫合金葉片時,加裝高溫原位測量艙(最高800℃)可實時追蹤氧化層生長過程;在檢測微電子器件時,啟用微顯示共聚焦技術可實現200×物鏡下的亞微米級聚焦。

應用案例與操作技巧

某生物材料企業曾利用S neox優化3D打印鈦合金支架的孔隙結構。研究人員通過共聚焦動態掃描發現,孔徑誤差與成骨細胞黏附率呈負相關,據此將孔徑標準從100±10μm調整至100±5μm,使細胞增殖率提升30%。操作時,建議優先使用彩色攝像頭進行樣品預覽,通過紅、綠、藍三色通道對比快速定位測量區域;在分析粗糙表面時,可啟用多焦面疊加模式的“智能降噪"功能,將信噪比提高至40dB以上。

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